設備簡介

高真空感應熔煉翻轉澆鑄及噴鑄設備是將高真空感應熔煉鑄造裝置和高真空噴鑄裝置集成到一臺設備，共用一套高真空系統(tǒng)和一套水冷系統(tǒng)，設備占地面積小，操作簡單方便。

高真空感應熔煉鑄造裝置高真空噴鑄裝置共用一個真空腔體，采用圓形爐體，側部開門結構，進出料方便，爐體結構緊湊，占地空間較??；采用高頻電源加熱；高真空感應熔煉鑄造裝置主要在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉鑄造處理，也具有制備塊體金屬非晶,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發(fā)與研究。

主要技術參數(shù)

1.樣品最大熔煉量：10~100g;

2.真空度：5*10E^-4Pa（與高真空感應熔煉鑄造裝置共用真空系統(tǒng)）壓升率≤1.67Pa/h，同時自大氣開始抽氣，15-20min內(nèi)可以到5*10^-3Pa

3.熔煉電源功率：15KW;（頻率30~80KHz）（與高真空感應熔煉鑄造裝置共用）

4.熔煉坩堝：石英（可選配氮化硼坩堝）噴鑄的石英管接口高度上下可調(diào)，感應線圈熔煉量為10-100g；動密封采用焊接波紋管結構。

5.提供標準水冷噴鑄模具1套；模具底部帶可升降操作臺，可上下左右微調(diào)

6.真空腔尺寸：D400×400mm (D*L)